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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
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Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik, Barbara Fröschle
- Language
- Released
- 1997
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- Title
- Die chemische Gasphasenabscheidung von Titannitrid durch Einwirkung von thermischer Strahlung auf monokristalline Siliciumsubstrate zur Herstellung von Diffusionsbarrieren in der Mikroelektronik
- Language
- German
- Authors
- Barbara Fröschle
- Publisher
- Shaker
- Publisher
- 1997
- ISBN10
- 3826521870
- ISBN13
- 9783826521874
- Series
- Berichte aus der Chemie