Aufbau eines ultrahochauflösenden Tieftemperatur-Rastertunnelmikroskops

In dieser Arbeit wird der Aufbau eines ultrahochauflösenden 300mK Ultrahochvakuum-Rastertunnelmikroskops mit einem supraleitenden 9T Magnet beschrieben. Neben Charakterisierungsmessungen zu den einzelnen Funktionen der Anlage werden Ergebnisse erster Untersuchungen mit dem aufgebauten Rastertunnelmikroskop an zwei unterschiedlichen Probensystemen durchgeführt. Die am Institut für Festkörper- und Werkstoffforschung Dresden entwickelte und aufgebaute Rastertunnelmikroskopanlage verwendet einen kommerziellen 300 mK-Kryostaten in dem sich das Rastertunnelmikroskop sowie der supraleitende 9T Magnet befinden. Neben der Möglichkeit eines in situ Spitzen- und Probenwechsels steht eine drei Kammern umfassende, umfangreich ausgestattete Ultrahochvakuumanlage zur Präparation von Proben und Spitzen zur Verfügung. Durchgängige Messzeiten von 80 h bei 300mK sowie rund 8Tagen bei 6K ermöglichen ultrahochaufgelöste Topographie- und Spektroskopiemessungen. Dabei liegt die bei Basistemperatur erreichbare Energieauflösung der Anlage nur knapp über dem maximal möglichen thermischen Limit. Die durchgeführten Messungen umfassen einerseits Untersuchungen an Kobalt(II)Phthalocyanin-Filmen auf hochorientiertem pyrolytischen Graphit. Diese Filme wurden in unterschiedlichen Schichtdicken hergestellt und topographisch sowie spektroskopisch untersucht. Andererseits werden Messungen an Fe-As-Supraleitern präsentiert. Dabei wurde an den im Ultrahochvakuum gespaltenen supraleitenden Einkristallen, neben topographischen Messungen, vor allem der Einfluss verschiedener Fehlstellen des Kristalls auf die supraleitende Lücke untersucht.