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Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten

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Es wird ein neues Verfahren zum reaktiven Sputtern von transparenten und leitfähigen (TCO) Schichtsystemen vorgestellt.

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Reaktives Magnetronsputtern von transparenten und leitfähigen Oxidschichten, Bernd Szyszka

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2000
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